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溅射镀膜

 用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[

 二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，清远光学电镀，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。体系抽---真空后充入

 10～1帕的气体（平日为气），光学电镀加工，在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。

不同镀膜技术的比较 (iad：离子辅助沉积，ibs：离子束溅射，ald：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，光学电镀批发厂家，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，光学电镀供应商，蒸发沉积可以容纳的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。



为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，而且可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、iad沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。



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