光学电镀定制-东莞仁睿电子科技-长安光学电镀

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在沉积过程中，光学电镀定制，每一层的厚度均由光学或石英晶体监控。这两种技术各有优缺点，这里不作讨论。其共同点是材料蒸发时它们均在真空中使用，因而，折射率是蒸发材料在真空中的折射率，而不是暴露于潮湿空气中的材料折射率。若是空气的折射率是 1.0 ，镀膜的折射率nc (例如：1.5) ，玻璃的折射率n (例如：1.8)（1）由空气直接进入玻璃



与pvd相比，ald的沉积率通常较低。但ald制备工艺可通过大批量的产能来进行弥补。beneq p400a 经过优化，可在批量生产中以更快的生长速度沉积高保形厚膜。为工业规模生产设计的原子层沉积系统。它们是从研发阶段到---的工业化生产的理想工具。将等离子体增强原子层沉积（peald) 工艺提升到一个全新的水平 — 将 peald 应用于大批量生产。



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