与蒸发沉积不同，原子层沉积 (ald) 的源材料不需要从固体中蒸发，而是直接以气体的形式提供。尽管使用了气体，精密渐变镀膜，但在真空室中仍然经常使用高温。在 ald 过程中，前体以非重叠脉冲的形式传递，每个脉冲都具有自限性。该过程的化学设计使得只有一个单一的层可以依附每个脉冲，表面的几何形状不是---因素。由此可对层厚度和设计实现非凡的控制。
光学镀膜的设计是为了提高光学组件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，p 偏振或随机偏振）下的性能。如果镀膜的入射角度或偏振角度与设计时不同，将导致性能---下降。足够大的入射角和偏振偏差可能导致镀膜功能完全丧失。光学镀膜理论要理解光学镀膜，精密渐变镀膜订制，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，精密渐变镀膜价位，它受斯涅尔折射定律决定
光学薄膜在高真空度的镀膜腔中实现。常规镀膜工艺要求升高基底温度(通常约为300℃)；而较---的技术，如离子辅助沉积(iad)可在室温下进行。i镀膜按其用途分类、特点及应用可分为:反射膜、增透膜/增透膜、滤光片、偏光膜/偏光膜、/匹配膜、扩散膜/片、增亮膜/棱镜片/聚光片、遮光膜/黑白胶等。相关衍生品种类有光学保护膜、窗膜等。通过在光学元件或独立基板上镀或涂一层或多层介质或金属薄膜或两者的结合，
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