不同镀膜技术的比较 (iad：离子辅助沉积，显示屏渐变加工厂，ibs：离子束溅射，ald：原子层沉积)蒸发沉积在蒸发沉积过程中，真空室中的源材料通过加热或电子束轰击进行蒸发。在蒸发过程中，蒸汽冷凝到光学表面并控制加热、真空压力、基片定位和旋转，使特定设计厚度的光学镀膜保持均匀。与本部分所述的其他技术相比，蒸发沉积可以容纳的镀膜机尺寸，而且通常更经济有效。
真空镀膜:真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，显示屏渐变加工，磁控溅射，mbe分子束外延，pld激光溅射沉积等多种涂料，寮步显示屏渐变加工，所以，显示屏渐变加工供应，蒸发和溅射有两种主要类型.将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或药材.衬底处于与靶相同的真空中.光学薄膜的特点是:表面光滑，膜层之间的界面呈几何分割，膜层的折射率在界面上可以发生跃变，但在膜层内是连续的，可以是透明介质，也可以是光学薄膜
可以应用于塑料制成的基底。图19.11展示一个操作者正在光学镀膜机前。抽真空主系统由两个低温泵组成。电子束蒸发、iad沉积、光控、加热器控制、抽真空控制和自动过程控制的控制模块都在镀膜机的前面板上。光学涂层可以直接应用于光学元件的表面、以调整其反射率等。除此外可以利用材料的特性与多个膜层的配合作用可以达到很多特殊效果。
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