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光学镀膜简介及原理 为了地提高或降低干涉，它们的光学厚度通常为应用中所使用的光的波长的 λ/4 光学厚度 (qwot) 或 λ/2 光学厚度 (hwot)。这些薄膜由高折射率和低折射率交替而成，从而诱发需要的干涉效应光学镀膜的设计是为了提高光学组件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，福建办---具渐变加工，p 偏振或随机偏振）下的性能。办---具渐变加工办---具渐变加工办---具渐变加工















什么是镀膜？薄膜沉积（镀膜）是在基底材料上形成和沉积薄膜涂层的过程，在基片上沉积各种材料的薄膜是微纳加工的重要手段之一，办---具渐变加工订购，薄膜具有许多不同的特性，可用来改变或---基材性能的某些要素。例如，办---具渐变加工，透明，办---具渐变加工厂，---且耐刮擦；增加或减少电导率或信号传输等。薄膜沉积厚度范围从纳米级到微米级。常用的薄膜沉积工艺是物理气相沉积（pvd）与化学气相沉积（cvd）。



光学镀膜的设计是为了提高光学组件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，p 偏振或随机偏振）下的性能。如果镀膜的入射角度或偏振角度与设计时不同，将导致性能---下降。足够大的入射角和偏振偏差可能导致镀膜功能完全丧失。光学镀膜理论要理解光学镀膜，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，它受斯涅尔折射定律决定



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