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溅射镀膜

 用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[

 二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶，牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上，距靶几厘米。体系抽---真空后充入

 10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。

光学镀膜的设计是为了提高光学组件在特定入射和偏振角度（如 s 偏振，p 偏振或随机偏振）下的性能。如果镀膜的入射角度或偏振角度与设计时不同，真空光学镀膜供应，将导致性能---下降。足够大的入射角和偏振偏差可能导致镀膜功能完全丧失。光学镀膜理论要理解光学镀膜，就必须理解折射和反射的菲涅耳方程。折射是波从一种光学介质传播到另一种介质时传播方向的变化，它受斯涅尔折射定律决定



等离子溅射包括一系列已知技术，包括---等离子溅射和磁控溅射。一般概念来源于等离子体的产生。等离子体中的离子随后加速进入源材料，撞击出松散的高能源离子，惠州真空光学镀膜，然后溅射到目标光学元件上。尽管每种等离子溅射都有其的特性、优点和缺点，真空光学镀膜logo定制，但由于它们有共同的操作概念，因此这些技术被组合在一起。与本部分讨论的其他镀膜技术相比，这一组中的差异要小得多。



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