真空镀铝是在真空状态下，将铝金属加热熔融至蒸腾，铝原子凝结在高分子材料外表，构成极薄的铝层。真空镀铝请求基材外表润滑、平坦、厚度均匀；挺度和摩擦系数恰当；外表张力大于38dyn/cm2；热性能好，经得起蒸腾源的热辐射和冷凝热的效果；基材含水量低于0.1%。常用的镀铝基材有聚酯(pet)、聚丙希(pp)、聚---(pa)、聚乙希(pe)、聚氯乙希(pvc)等薄膜。其二是我国一些基础元器件及控制元件不过关，经受不住长期考验。镀铝技术有哪些常见问题？

镀膜加工厂告诉你真空镀膜的特点是什么？

真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有哪些特点呢？现在由电镀加工厂的小编和大家说说具体有哪些特点：

1.真空镀膜可以在固态基体上镀制金属，合金，半导体薄膜及各种化合物薄膜拜，薄膜的成分可以在大范围内调控。

2.真空镀膜可以镀制高纯度，高致密度，与基体结合力强的各种功能薄膜拜。---是各种金属五金产品，---集成电路，小分子有机显示器件等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备，其他制模技术无法满足要求。

3.真空镀膜对环境无污染，---是pvd方法。

4.真空镀膜是需要有真空设备来完成的镀膜，所以成本比较高，但真空镀膜产品耐磨性好，耐腐蚀，，产品可过rohs测试。