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发布单位:东莞市仁睿电子科技有限公司  发布时间:2022-6-6














倘若没有光学薄膜技术作为发展基础,近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展,这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上,制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合,以改变光波之传递特性,包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率,亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。





在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。不同应用时输出镜有不同透过率的要求,因此必须采用光学镀膜方法。常用的镀膜材料有---锌、---镁、二氧化钛、氧化锆等。除了高反膜、增透膜之外,还可以镀对某波长增反射、对另---长增透射的特殊膜,如激光倍频技术中的分光膜等。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。随着激光技术的发展,对膜层的反射率和透过率有不同的要求,头盔镜防雾处理加工厂



光学薄膜的技术和直接影响到应用系统的性靠性及成本。光学镀膜技术在过去几十年实现了长足的进展,从舟蒸发、电子束热蒸发及其离子束辅助沉积技术发展到离子束溅射和磁控溅射技术。相对于间接光控和晶控系统,间歇式直接光控系统有利于降低实际产品上的薄膜厚度分布误差,可以进一步提高产品良率并减少了工艺调试时间。磁控溅射薄膜沉积过程控制简单,粒子能量高,获得的薄膜结构致密稳定。

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